个人简历-中国科学院宁波材料技术与工程研究所 7页

姓名夏卫星性别男出生年月1970年05月29日出生地山东省济南市国籍中国现工作单位及职位日本理化学研究所研究员学习及工作经历（从大学开始，包括时间、单位、专业、学位、任职情况，注意时间段要连续，准确到月份）：1987年09月-1991年08月中国山东轻工业学院自动化控制专业学士1991年09月-1998年01月中国山东济南烟草公司工程师(从事烟草生产线自动控制设备的设计,维护)1998年02月-1999年03月日本东北大学磁材料及磁记录专业预备生1999年04月-2001年03月日本东北大学磁材料及磁记录专业硕士(从事磁性薄膜的制备和微观结构及特性评价)2001年04月-2004年09月日本东北大学磁材料及磁记录专业博士(从事垂直磁记录系统的理论拟合)2004年10月-2005年03月日本东北大学电气通信研究所博士后(从事磁性薄膜的制备和微观结构及特性评价)2005年04月-2010年03月日本东北大学多元物质材料科学研究所研究准职员(从事透射电镜工作,洛伦兹电镜和电子全息技术)2010年04月-现在日本理化学研究所研究员(从事透射电镜的工作,电子全息技术)一、候选人的主要学术成就、科技成果及创新点：（简要概括，侧重体现成果、创新能力和领导能力）在日本东北大学电气通信研究所博士课程期间(1998-2004),从事垂直磁记录介质的制备评价,垂直磁记录的记录再生系统的实验及计算机拟合方面的工作.所在研究室的前任教授是垂直磁记录技术的发明人岩崎俊一教授.熟练的掌握了 磁控溅射设备来制备磁性薄膜,并进行微观构结构和磁性能评价.在两个方面作出创新:1.开发了一个基于三维有限元法和磁化反转模型的新的程序来拟合垂直磁记录的记录再生系统.在程序中,考虑了磁头和磁下底层等软磁材料的非线性特性;用非一致反转的Curling模型或者一致反转的Stoner-Wohlfarth模型来考虑CoPrCr粒子的磁化反转机制.HCPCoPrCr微粒子的容易轴分布和各向异性场分布用概率统计论考虑,各个CoPrCr微粒子之间的交换藕合作用用平均场理论来考虑.新开发的程序的最大特点是读写磁头,记录介质和软磁衬底的相互作用得到了精确的考虑.应用此软件,对一些影响高密度记录的因素进行了研究,如磁头结构和记录介质的磁特性对记录分解能的影响,单磁极磁头的最大记录磁场强度和外界漂游磁场对单磁极磁头写能力的影响等,对实际记录再生系统提出设计方案并部分得到验证.(相关工作发表在J.Appl.Phys.,IEEETrans.Magn,J.Magn.Magn.Mater.上)2.系统地检讨了CoCrPt-SiO2垂直记录介质的下底层Ru的制备条件对CoCrPt-SiO2薄膜的磁特性的影响,提出了低压/高压双层成膜方法.(相关工作发表在J.Appl.Phys.,IEEETrans.Magn上)从2005年到2010年,在东北大学多元物质材料科学研究所从事透射电子显微镜方面的工作,用电子全息技术和洛伦兹电镜法做磁性材料的微观磁结构分析.熟练地掌握了30万伏JEM-3000F,20万伏JEM-3010和100万伏JEM-1250电镜的操作技术.熟练地掌握了明暗场像,高分辨率像,电子衍射图,纳米尺寸光斑衍射图的摄影技术.同时,掌握了聚焦离子束(FIB)和离子减薄(IonMilling)等电镜样品的制备技术.从事研究的同时指导硕士生进行论文答辩.研究工作包括:1.L10相FePtZrB为主要组成部分的块状样品的微观结构观察,样品内的磁场分布及它与矫顽力机制的关系;2.作为垂直磁记录的软磁性衬底层的CoNiFeB软磁薄膜的评价;3.用有限元法进行了电磁场分布的计算,用于校正电子全息技术中参考电子波的相移引起的误差.4.垂直磁记录中磁头的磁场分布,首次用电子全息技术观测到磁头和记录介质的相互作用.(相关工作发表在JournalofElectronMicroscopy上).2010年5月至今,作为研究员在日本 理化学研究所外村彰教授的研究组继续从事电子全息技术的研究工作.外村教授是将电子全息技术发明人,是60亿日元的“原子分辨率的全息电子显微镜的开发和应用”项目(2010-2014)的负责人.研究工作包括电镜设计改造、安装调试和电子全息技术的应用.对于电镜内部构造有了深入的了解.到目前为止,在分析电子显微技术(电子全息技术)、磁性材料、磁记录技术方面,从实验到理论积累很多经验；指导过学生;参与过大的科研项目并担任子项目的负责人。二、候选人领导或参与过的项目：1.2007.4-2010.3在东北大学其间,参与日本文部省「利用MFM和电子全息对磁化强度分布的三维精密解析」项目,金额0.5亿日元,共5人,本人为研究参加者.2.2010.8-2012.9,参与冲绳科学技术研究基盘整备机构与理化学研究所的共同研究项目「利用电子全息对纳米磁性材料的研究」,金额为2.0亿日元,参与者5人,担任项目负责人,此项目为日本内阁府及学术振兴会的最先端研究开发支援项目“原子分辨率全息电子显微镜的开发”(代表者外村彰,金额60亿日元)的子项目.三、候选人代表性论文（著）：[1]W.X.Xia,K.Inoue,S.Saito,andM.Takahashi,“EffectofRhspaceronSynthetic-AntiferromagneticCouplinginFeCoB/Rh/FeCoBFilms,”JournalofPhysics:ConferenceSeries266,012064(2011).[2]W.X.Xia,Y.S.Chun,S.Aizawa,K.Yanagisawa,KannanM.Krishnan,D.Shindo,A.Tonomura,“InvestigationofmagneticstructureandmagnetizationprocessofyttriumirongarnetfilmbyLorentzmicroscopyandelectronholography,”J.Appl.Phys.,108,123919(2010).影响因子:2.07[3]平田京,夏衛星,石田洋一,柳澤圭一,葛西裕人,柳内克昭,進藤大輔,外村彰，“電子線ホログラフィーによるHDD用磁気ヘッドの観察，”電子情報通信学会，信学技報(2010).[4]W.X.Xia,C.T.Xiao,andD.Shindo,“ChangesofMagneticAnisotropyofCoPtCrPerpendicularFilmsDuetoRuIntermediateLayerUnderHighGasPressure,”IEEETrans.Magn,99,(doi:10.1109/TMAG.2010.2051449)(2010).影响因子:1.12.[5]S.Mamishin,H.Kasai,W.X.Xia,Y.Murakami,D.Shindo,S.Mori,andA.Tonomura,“LorentzMicroscopyStudyonMagnetizationReversalProcessinSingle-DomainStateinPerovskite-TypeManganite,”JapaneseJournalofAppliedPhysics,49,063003(4pages)(2010).影响因子:1.14. [1]W.X.Xia,K.Hirata,K.Yanagisawa,Y.Ishida,H.Kasai,K.Yanagiuchi,D.Shindo,andA.Tonomura,“Quantitativeevaluationofmagneticfluxdensityinamagneticrecordingheadandpseudosoftunderlayerbyelectronholography,”JournalofElectronMicroscopy:59(5),331-7(doi:10.1093/jmicro/dfq057)(2010).影响因子:1.13.[2]GaoYou-hui(高有辉),WeiLing(卫玲),GaoChun-Lei(高春蕾),XiaWei-Xing(夏卫星),andShindoDaisuke(進藤大辅),“MagneticpropertiesofDNA-templatedCo/Cunaonoparticlechains,”ChinesePhysicsB,Vol.19,No.8,088103(2010).影响因子:2.01[3]D.Shindo,J.J.Kim,K.H.Kim,W.X.Xia,N.Ohno,Y.Fujii,N.Terada,andS.Ohno,“DeterminationofOrbitalLocationofElectron-InducedSecondaryElectronsbyElectricFieldVisualization,”JournalofthePhysicsSocietyofJapan,78,104802(2009).影响因子:2.57.[4]W.X.Xia,Y.Murakami,D.Shindo,M.Takahashi,“ChangesinswitchingfieldsofCoCrPt-SiO2perpendicularrecordingmediaduetoRuintermediatelayerunderlowandhighgaspressures,”J.Appl.Phys.105,013926(2009).影响因子:2.07[5]K.Tohara,W.X.Xia,Y.Murakami,D.Shindo,T.Ito,Y.IwasakiandJ.Tachibana,“ObservationsofamagneticmicrostructureinaCo-CoOobliquelyevaporatedtapeusingelectronholography,”JournalofElectronMicroscopy,58(1):7–13,(doi:10.1093/jmicro/dfn033)(2009).影响因子:1.13.[6]W.X.Xia,S.Toyota,J.J.Kim,D.Shindo,M.ItoandK.Ohashi,“MicrostructureandMagneticPropertyofElectroless-PlatedCoNiFeBSoftUnderlayer,”J.Magn.Magn.Mater.,320,3011(2008).影响因子:1.39.[7]W.X.Xia,J.J.Kim,D.Shindo,A.Makino,“MagneticMacrostructuralStudyofL10NanocrystallineFePtAlloysbyMeansofElectronHolography,”MaterialTransactions,48(10),2612(2007).影响因子:1.01.[8]K.H.Kim,J.J.Kim,W.X.Xia,D.Shindo,“ElectronHolographyofChargingEffectinZrO2SinteredBody,”MaterialTransactions,48(10),2616(2007).影响因子:1.01.[9]J.J.Kim,W.X.Xia,D.Shindo,I.OikawaandT.Tomita,“QuantitativeElectronHolographicAnalysisofElectricPotentialDistributionaroundFEG-Emitters,”MaterialsTransactions,48(10),2631(2007).影响因子:1.01.[10]D.Shindo,J.J.Kim,W.X.Xia,K.H.Kim,N.Ohno,Y.Fujii,N.TeradaandS.Ohno,“ElectronHolographyonDynamicMotionofSecondaryElectronsAroundSciaticNerveTissues,”JournalofElectronMicroscopy56(1),1(2007).影响因子:1.13.[11]J.J.Kim,D.Shindo,Y.Murakami,W.X.Xia,L.-J.Chou,Y.–L.Chueh,“DirectionObservationofFieldEmissioninaTaSi2Nanowire,”NANOLETTERS,7(8),2243(2007).影响因子:9.96.[12]W.X.Xia,K.Tohara,Y.Murakami,D.Shindo,T.Ito,Y.IwasakiandJ.Tachibana,“ObservationofMagnetizationofaCo-CoOObliquelyEvaporatedMagneticRecordingTape,”IEEETrans.Magn,42(10),3252(2006).影响因子:1.12.[13]W.X.Xia,T.Yamada,K.Tani,J.Numazawa,H.Muraoka,H.AoiandY.Nakamura,“MediaMagnetizationCalculationUsing3DFEMinPerpendicularMagneticRecording,”J.Appl.Phys.97(10),10N514(2005).影响因子:2.07[14]W.X.Xia,T.Yamada,H.Aoi,H.MuraokaandY.Nakamura,“ReductionofTrackWidthinPerpendicularMagneticRecording,”J.Magn.Magn.Mater.287,77(2005).影响因子:1.39. [1]W.X.Xia,T.Yamada,K.Tani,J.Numazawa,H.Aoi,H.Muraoka,Y.Nakamura,“InvestigationofTrackWidthinPerpendicularMagneticRecording,”Trans.Magn.Soc.Japan,5,1(2005).[2]W.X.Xia,J.Numazawa,H.Aoi,H.Muraoka,Y.Nakamura,“AnalysisofRecordedTrackWidthUsing3DFEMinPerpendicularMagneticRecording,”TheJournaloftheInstituteofImageInformationandTelevisionEngineersofJapan,59,604(2005).[3]W.X.Xia,Y.Suzuki,H.Aoi,H.MuraokaandY.Nakamura,“InfluenceofTrackWidthonReproductionofaShieldedGMRHead,”TheJournaloftheInstituteofImageInformationandTelevisionEngineersofJapan,58,982(2004).[4]W.X.Xia,H.Aoi,H.MuraokaandY.Nakamura,“ResolutionImprovementofTransitionWidthwithShieldedPoleWriter,”IEEETrans.Magn,40(4),2365(2004).影响因子:1.12.[5]」W.X.Xia,T.Yamada,K.Tani,H.Muraoka,H.AoiandY.Nakamura,“AnalysisofRecordedTrackWidthUsing3DFEMinPerpendicularMagneticRecording,”電子情報通信学会技術研究報告,Vol.104,No.166,MR2004-4,p.19,2004年７月.[6]夏　衛星,鈴木良夫,村岡裕明,青井　基,中村慶久,「シールド型GMRヘッドの再生分解能に対するリードトラック幅の影響」,　電子情報通信学会技術研究報告,Vol.103,No.347,MR2003-22,p.19,2003年10月.[7]W.X.Xia,H.MuraokaandY.Nakamura,“High-FieldGradientSingle-PoleHeadWithanImprovedPoleStructure”,IEEETrans.Magn,38(5),2216(2002).影响因子:1.12.[8]夏　衛星,村岡裕明,中村慶久,“垂直二層膜媒体における単磁極ヘッド磁界勾配と転移パラメータに関する検討”,電子情報通信学会技術研究報告,Vol.101,No.499,MR2001-87,p.21,2001年12月.四、候选人专利列表：五、候选人所开发的产品：六、其他参与国际会议13次、日本国内会议8次，中国国内会议1次,口头报告10次，简列如下：[1]W.X.Xia,K.Inoue,S.Saito,andM.Takahashi,“Synthetic-AntiferromagneticCouplinginSubnano-CrystallineFeCoB/Rh/FeCoBFilms,”SF-10,InternationalSymposiumonAdvancedMagneticMaterialsandApplications2010,Jul.12~16,2010,Sendai,Japan.[2]W.X.Xia,D.Shindo,“TheapplicationofStoner-WohlfarthmodeltoCoPtCr-SiO2perpendicularrecordingmedia,”14:45-15:10,Aug.28,2009,第十届全国磁学理论会议(杭州，2009).[3]W.X.Xia,J.J.Kim,T.Yogo,D.Shindo,M.ItoandK.Ohashi,“MicrostructureandMagneticPropertyofElectroless-PlatedCoNiFeBSoftUnderlayer,”PMRC2007,15pd10,Otc.15-17,2007,Tokyo,Japan. [1]W.X.Xia,J.J.Kim,D.ShindoandA.Makino,“InvestigationofMangeticMicrostructureofL10(Fe0.55Pt0.45)78Zr2-4B18-20NanocrystallineAlloysusingElectronHolography,”The16thInternationalMicroscopyCongress,P8M_170,Sep.3-8,2006,Sapporo,Japan.[2]W.X.Xia,D.Shindo,A.Makino,“MagneticMicrostructureofL10(Fe0.55Pt0.45)78Zr2-4B18-20NanocrystallineAlloysObservedbyElectronHolography,”Intermag2006,CW-07,May8-12,2006,SanDiego,California.[3]W.X.Xia,K.Tohara,Y.Murakami,D.Shindo,T.Ito,Y.IwasakiandJ.Tachibana,“ObservationofMagnetizationTransitionofaCo-CoOObliquelyEvaporatedMagneticRecordingTape,”Intermag2006,CR-08,May8-12,2006,SanDiego,California.[4]W.X.Xia,T.Yamada,K.Tani,J.Numazawa,H.Muraoka,H.AoiandY.Nakamura,“MediaMagnetizationCalculationUsing3DFEMinPerpendicularMagneticRecording,”49thConferenceonMagnetismandMagneticMaterials,HB-08,2004,Florida.[5]W.X.Xia,T.Yamada,K.Tani,J.Numazawa,H.Muraoka,H.AoiandY.Nakamura,“InvestigationofTrackWidthinPerpendicularMagneticRecording,”The28thAnnualConferenceonMagneticsinJapan,24-aB-4,2004,Okinawa,Japan.[6]W.X.Xia,T.Yamada,H.Aoi,H.MuraokaandY.Nakamura,“ReductionofTrackWidthinPerpendicularMagneticRecording,”7thPMRC,01pC-01,2004,Sendai,Japan.[7]W.X.Xia,H.MuraokaandY.Nakamura,“ResolutionImprovementofTransitionwithShieldedPoleWriter,”Digestofthe9thJointMMM-IntermagConference2004,GD-02,Jan.5-9,2004,Anaheim,California.[8]」W.X.Xia,H.MuraokaandY.Nakamura,“HighFieldGradientSinglePoleHeadWithaNovelPoleStructure,”IntermagEurope2002,AQ-05,2002,Amsterdam,TheNethelands.2007年获得国际金相竞赛优秀奖,日本金属学会金属组织写真佳作奖.七、论文被收录情况统计收录情况《SCI》《EI》注：请按如下格式填写：近五年的篇数（总篇数）第一作者论文106非第一作者论文91总计197论文被引用情况统计 《SCI》引用情况他人引用次数引用期刊种数引用作者人数第一作者论文26非第一作者论文15总计41注：1.论文被收录与被引用的统计以申请年度的前5年为限；2.自引部分不计入引文统计中；3.对列入统计表中的论文及引文均需附检索证明。